[发明专利]掩模版、滤光板的制造方法、液晶显示装置在审
| 申请号： | 201210518164.4 | 申请日： | 2012-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN103852969A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 郁侃;金子若彦;张莉 | 申请（专利权）人： | 上海广电富士光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/26 | 分类号： | G03F1/26;G02F1/1339;G02F1/1335;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201108 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种掩模版、滤光板的制造方法、液晶显示装置，掩模版用于制造滤光板上的间隔柱，包括：基底；位于所述基底上的掩膜层，所述掩膜层具有多个第一图案区域和多个第二图案区域，所述第一图案区域用于形成主间隔柱，所述第二图案区域用于形成副间隔柱，所述主间隔柱的高度大于所述副间隔柱的高度；所述第一图案区域仅有唯一的第一开口，每个第二图案区域包括多个第二开口、相邻两个第二开口之间的遮光部，所述第二开口的边长或线幅范围为1.5μm～3.5μm，遮光部的宽度范围为1.0μm～3.0μm。本技术方案改善小型化副间隔柱的剥离现象。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 滤光 制造 方法 液晶 显示装置 | ||
【主权项】：
一种掩模版，用于制造滤光板上的间隔柱，其特征在于，包括：基底；位于所述基底上的掩膜层，所述掩膜层具有多个第一图案区域和多个第二图案区域，所述第一图案区域仅有唯一的第一开口，第二图案区包括多个第二开口、相邻两个第二开口之间的遮光部；其中第一图案区域用于形成主间隔柱，第二图案区域用于形成副间隔柱，所述主间隔柱的高度大于所述副间隔柱的高度；所述第二开口的边长或线幅范围为1.5μm～3.5μm，所述遮光部的宽度范围为1.0‑3.0μm。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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