[发明专利]一种带纤中多波长阵列光栅同时刻写的装置及方法有效
| 申请号： | 201210506669.9 | 申请日： | 2012-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102998740A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 刘雪强;毕卫红;齐跃峰;江鹏;高洁 | 申请（专利权）人： | 燕山大学 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 石家庄一诚知识产权事务所 13116 | 代理人： | 崔凤英 |
| 地址： | 066004 河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 一种带纤中波长多波长阵列光栅同时刻写的装置，其主要是：在紫外激光器的紫外光路上由近及远依次设有与紫外光垂直的相位掩模板、光敏带纤和光纤形变调控模板，其中，光敏带纤由带纤夹具固定并与相位掩模板平行，光纤形变调控模板的工作部分设有与相位掩模板平行且大小对应的矩形通孔，在上述模板通孔两侧的支柱上对称地设有深度不同的凹槽，上述模板下部设有滑块，其与设在位移平台上的滑槽相对应。本发明的阵列光栅制备系统结构简单，多个光栅同时刻写，利于减少光栅波长梯度误差；采用本发明制备的阵列光栅重复性好、精度高、损伤小，适用于带纤中多波长阵列光栅的批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 带纤中多 波长 阵列 光栅 同时 刻写 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种带纤中波长多波长阵列光栅同时刻写的装置，其特征在于：在紫外激光器的紫外光路上由近及远依次设有与紫外光垂直的相位掩模板、光敏带纤和光纤形变调控模板，其中，光敏带纤由带纤夹具固定并与相位掩模板平行，光纤形变调控模板的工作部分设有与相位掩模板平行且大小对应的矩形通孔，在上述模板通孔两侧的支柱上对称地设有深度不同的凹槽，槽的高度对光纤造成的形变影响即光纤拉伸量之间的关系可用如下公式表示：![]()
其中h为槽的高度，2倍l1为带纤夹具间距与刻写光栅长度之差，△l为光纤拉伸量；凹槽的宽度稍大于光纤的直径，各个槽之间的距离与带纤中光纤之间的距离相对应，上述模板下部设有滑块，其与设在位移平台上的滑槽相对应。
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