[发明专利]铜及铜合金的深冷降阻处理方法无效

专利信息
申请号: 201210487473.X 申请日: 2012-11-26
公开(公告)号: CN102994921A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 罗震;蒋俊亮;李洋;任吉刚 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C22F1/08 分类号: C22F1/08
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 王秀奎
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了铜及铜合金的低温降阻处理方法,采用深冷工艺对铜及铜合金进行低温处理,在保持材料的原始成分和尺寸基础上,通过调整微观组织结构,使铜及其合金的导电性能得到提高。该方法简单,工艺易于操控,适合于工业化的推广和使用。
搜索关键词: 铜合金 深冷降阻 处理 方法
【主权项】:
铜及铜合金的深冷降阻处理方法,其特征在于,按照下述步骤进行:将铜及铜合金从室温开始降温至深冷程度进行深冷处理,深冷温度为‑190℃~‑150℃,温控误差为±2℃~±10℃,深冷时间为4~8小时,深冷后在空气中自然升温至室温。
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