[发明专利]一种摇摆式等离子体约束装置

摘要

本发明公开了一种摇摆式等离子体约束装置，设置在等离子体刻蚀设备反应腔内，其特点是，该摇摆式等离子体约束装置包括：设置在静电夹盘外围到反应腔的腔壁之间的环状支架，设置在环状支架上的多组摆动机构；反应腔内的等离子体被运动的多组摆动机构搅动而形成涡流，来清洗反应腔。每组摆动机构还包含：叶片和沿环状支架的径向穿过所述叶片的转动轴；其中所述的转动轴一端与环状支架靠近静电夹盘的一侧连接，其另一端与环状支架靠近腔壁的一侧连接；叶片能够在转动轴上摆动或旋转。本发明能够提高等离子体与难清洁部位沉积的聚合物的反应几率，从而提高对难清洁部位沉积的聚合物的清洗能力。

主权项

一种摇摆式等离子体约束装置（1），设置在等离子体刻蚀设备的反应腔（9）内，所述等离子体刻蚀设备通过静电夹盘（41）上方设置的气体喷头（32）将气体引入反应腔（9）内以形成该气体的等离子体，其特征在于，所述摇摆式等离子体约束装置（1）包括：设置在静电夹盘（41）外围到反应腔（9）的腔壁（2）之间的环状支架（11），设置在环状支架（11）上的多组摆动机构（12）；反应腔（9）内的等离子体（71）被运动的多组摆动机构（12）搅动而形成涡流，来清洗反应腔（9）。