[发明专利]一种暴露{110}面二氧化钛光催化材料及其制备方法无效
| 申请号： | 201210475155.1 | 申请日： | 2012-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN102941076A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 田宝柱;李套云;李艺茹;张金龙;王婷婷;杨钒;陈星;熊天庆 | 申请（专利权）人： | 华东理工大学 |
| 主分类号： | B01J21/06 | 分类号： | B01J21/06;C01G23/053;C01G23/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200237 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种{110}高能面暴露的二氧化钛光催化材料及其制备方法。所述光催化材料由暴露面为{101}、{001}和{110}面，且{110}所占比例高达20％。其制备方法包括以下步骤：(1)在水溶液体系中，加入钛源，并以双氧水及氢氟酸作为晶体生长的调节剂，在120～220℃下水热反应3～36小时，即可得到{110}面暴露的锐钛矿二氧化钛单晶；(2)通过水洗离心，高温煅烧除去溶液中的杂质离子；(3)用真空干燥箱对样品进行干燥，得到二氧化钛单晶光催化材料粉末。本发明具有制备过程简单、条件温和、后处理方便等优点，且本发明所制备的光催化剂对染料等有机污染物(罗丹明B)有较好的光催化降解活性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 暴露 110 氧化 光催化 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种大面积{110}面暴露的二氧化钛光催化材料，其特征在于，所述催化剂为锐钛矿相二氧化钛单晶。
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