[发明专利]半导体器件的数值仿真数据处理方法和装置有效

专利信息
申请号: 201210457513.6 申请日: 2012-11-14
公开(公告)号: CN102968528A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 贡顶;沈忱 申请(专利权)人: 苏州珂晶达电子有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 陈振
地址: 215123 江苏省苏州市苏州工*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种半导体器件的数值仿真数据处理方法和装置。该方法在Polsky半隐式方法的基础上,在迭代中增加了对电子浓度nt+1、空穴浓度pt+1修正步骤。其计算量小,并且提高了数值的精度与仿真的稳定性。
搜索关键词: 半导体器件 数值 仿真 数据处理 方法 装置
【主权项】:
1.一种半导体器件的数值仿真数据处理方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S100,在进行半导体器件数值仿真过程中,令Tt+1=Tt+τ;其中,T代表时刻;t代表离散的时间网格点的下标,t=0,1,2,3,...为非负整数;τ为仿真推进时间步长;T0为初始时刻,Tstop为终止时刻;步骤S200,利用上一时刻的电势φt、电子浓度nt和空穴浓度pt,按照Mock方法建立半隐式线性化载流子连续性方程;计算求解所述半隐式线性化载流子连续性方程,得到Tt+1时刻的电子浓度nt+1和空穴浓度pt+1;步骤S300,利用上一时刻的电势φt和步骤S200中得到的电子浓度nt+1和空穴浓度pt+1,按照Mock方法建立半隐性式线性化全电流连续性方程;计算求解所述半隐性式线性化全电流连续性方程,得到Tt+1时刻的电势φt+1;步骤S400,利用步骤S200得到的电子浓度nt+1和空穴浓度pt+1,以及步骤S300得到的电势φt+1,按照Polsky的方法,建立电势修正方程;计算求解所述电势修正方程,得到Tt+1时刻的修正电势步骤S500,利用步骤S200得到的电子浓度nt+1和空穴浓度pt+1,步骤S300得到的电势φt+1,以及步骤S400得到的修正电势建立载流子浓度修正方程;求解所述载流子浓度修正方程,计算得到Tt+1时刻的修正电子浓度和修正空穴浓度步骤S600,令t=t+1,电势电子浓度空穴浓度步骤S700,判断当前时刻Tt是否到达预先设置的终止时刻Tstop;如果是,则结束;否则返回步骤S100,进行下一时刻Tt+1的迭代计算。
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