[发明专利]一种通过外加磁场提高电镀层沉积速率的方法无效
| 申请号： | 201210453583.4 | 申请日： | 2012-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN103806046A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 刘茂见 | 申请（专利权）人： | 无锡三洲冷轧硅钢有限公司 |
| 主分类号： | C25D5/00 | 分类号： | C25D5/00;C25D3/60;C25D3/56 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 武春华 |
| 地址： | 214100 江苏省无锡*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通过外加磁场提高电镀层沉积速率的方法，被镀物通过浸渍脱脂、酸洗、电解洗涤和活化中的至少1种操作进行预处理之后，再进行电镀工序；电镀时施加1.2-1.5T的稳态磁场。通过外加磁场，并使用特定的合金镀浴，从而使以短时间进行锡-锌合金的电镀成为可能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 外加 磁场 提高 镀层 沉积 速率 方法 | ||
【主权项】：
一种通过外加磁场提高电镀层沉积速率的方法，被镀物通过浸渍脱脂、酸洗、电解洗涤和活化中的至少1种操作进行预处理之后，再进行电镀工序；其特征在于：电镀液为锡‑锌合金镀浴，其含有羟基羧酸或其盐，并且锡‑锌合金镀浴的pH为2～10；电镀时施加1.2‑1.5T的稳态磁场。
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