[发明专利]反射阵面及反射阵列天线有效
申请号: | 201210447599.4 | 申请日: | 2012-11-09 |
公开(公告)号: | CN102983410A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 刘若鹏;季春霖;李星昆;殷俊 | 申请(专利权)人: | 深圳光启创新技术有限公司 |
主分类号: | H01Q15/14 | 分类号: | H01Q15/14;H01Q19/10;H01Q21/00;H01Q3/16;H01Q1/27 |
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地址: | 518034 广东省深圳市福田*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种反射阵面,所述反射阵面包括用于对入射电磁波进行波束调制的功能板以及设置在功能板一侧的用于反射电磁波的反射层,所述功能板包括两个或两个以上的功能板单元,所述反射层包括与功能板单元对应数量的反射单元,所述功能板单元与其对应的反射单元构成一个用于移相的移相单元;所述反射阵面对与反射阵面法线方向呈预定角度范围的入射电磁波具有聚焦能力。根据本发明的反射阵面,能够对预定角度范围内入射电磁波具有聚焦能力,从而可以使得该反射阵面能够具有多个焦点,以用于不同的环境或地区。另外,本发明还提供了一种反射阵列天线。 | ||
搜索关键词: | 反射 阵列 天线 | ||
【主权项】:
一种反射阵面,其特征在于,所述反射阵面包括用于对入射电磁波进行波束调制的功能板以及设置在功能板一侧的用于反射电磁波的反射层,所述功能板包括两个或两个以上的功能板单元,所述反射层包括与功能板单元对应数量的反射单元,所述功能板单元与其对应的反射单元构成一个用于移相的移相单元;所述反射阵面对与反射阵面法线方向呈预定角度范围的入射电磁波具有聚焦能力。
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