[发明专利]一种凹面闪耀光栅的设计方法无效
| 申请号： | 201210388282.8 | 申请日： | 2012-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN102866445A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 徐邦联;黄元申;卢忠荣;张大伟;倪争技;王琦;陶春先;庄松林 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 吴宝根 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种凹面闪耀光栅的设计方法，对于给定半径为R的凹面基片，通过在基片上刻划设定角度和间距的刻槽，得到凹面闪耀光栅，所述的入射光为点光源发出的球面波，点光源位于罗兰圆上；设计刻槽面的角度，使得入射光线与所有的刻槽面保持垂直；设计刻槽的间距，使得相邻刻槽的光程差为指定波长的整数倍；利用自由曲面加工仪在凹面基片上逐条刻划出相应角度及间距的刻槽，得到所需的凹面闪耀光栅。设计出的凹面光栅会对指定波长λ具有显著的闪耀增强效果，实施方便，只涉及到初等数学的计算，不需要专业的光学设计软件，设计的凹面闪耀光栅可广泛应用于光谱分析仪器、光学探测及光学测量等技术领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 凹面 闪耀 光栅 设计 方法 | ||
【主权项】：
一种凹面闪耀光栅的设计方法，对于给定半径为R的凹面基片，通过在基片上刻划设定角度和间距的刻槽，得到凹面闪耀光栅，其特征在于，所述的入射光为点光源发出的球面波，点光源位于罗兰圆上；设计刻槽面的角度，使得入射光线与所有的刻槽面保持垂直；设计刻槽的间距，使得相邻刻槽的光程差为指定波长的整数倍；利用自由曲面加工仪在凹面基片上逐条刻划出相应角度及间距的刻槽，得到所需的凹面闪耀光栅。
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