[发明专利]膜形成装置及膜形成方法无效
| 申请号： | 201210379859.9 | 申请日： | 2012-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN103043915A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 坂井 光广;川口 义广 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 王璐 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本申请的发明涉及一种膜形成装置及膜形成方法。其目的在于缩小占地面积并且缩短处理线的长度、且实现装置成本的降低及生产率的提升。本发明的膜形成装置包括：涂布处理机构(6)，沿水平方向搬送被处理基板(G)，并且从具有在所述基板的宽度方向上较长的喷出口的喷嘴喷出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；第1加热处理机构(11)，在第1加热温度下加热形成着所述涂布膜的所述基板；及第2加热处理机构(12)，在高于所述第1加热温度的第2加热温度下加热由所述第1加热处理机构加热过的所述基板。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种膜形成装置，其通过对构成太阳能电池板的被处理基板涂布特定的涂布液，且煅烧所形成的涂布膜，而形成抗反射膜，该膜形成装置的特征在于包括：涂布处理机构，沿水平方向搬送所述被处理基板，并且从具有在所述基板的宽度方向上较长的喷出口的喷嘴喷出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；第1加热处理机构，在第1加热温度下加热形成着所述涂布膜的所述基板；及第2加热处理机构，在高于所述第1加热温度的第2加热温度下加热由所述第1加热处理机构加热过的所述基板。
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