[发明专利]一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置无效

专利信息
申请号: 201210369005.2 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN102873042A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 吴亚军;冯立学;梁会宁;胡元庆;李华恩 申请(专利权)人: 奥特斯维能源(太仓)有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 215434 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种去用于除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,包括机械臂,喷淋支架,喷淋口,花篮,制绒槽,所述的机械臂与喷淋支架固定连接,所述的喷淋支架上设有喷淋口,所述的花篮设于喷淋支架的下方与喷淋口相对应,所述的花篮与机械臂通过挂钩连接,所述的制绒槽设于花篮的下方。本发明对制绒出来的硅片作进一步的清洗,能够有效去除硅片表面残留的硅酸钠,改善电池片的外观,减少硅片表面的污染,本发明结构简单,有益效果明显,适于产业化生产。
搜索关键词: 一种 用于 去除 硅片 表面 硅酸钠 残留 喷淋 装置
【主权项】:
一种去用于除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,其特征在于:包括机械臂(1),喷淋支架(2),喷淋口(3),花篮(4),制绒槽(5),所述的机械臂(1)与喷淋支架(2)固定连接,所述的喷淋支架(2)上设有喷淋口(3),所述的花篮(4)设于喷淋支架(2)的下方与喷淋口(3)相对应,所述的花篮(4)与机械臂(1)通过挂钩连接,所述的制绒槽(5)设于花篮(4)的下方。
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