[发明专利]一种用于真空处理装置的气体供应装置及其气体供应及切换方法

摘要

一种用于真空处理装置的气体供应装置及其气体供应及切换方法。本发明公开一种用于真空处理装置的气体供应装置，其包含：第一气体源和第二气体源；第一气体开关，其输入端连接于第一气体源，其输出端分别可切换地连接于两个真空处理装置或者一个真空处理装置中的两个子腔室的气体入口；第二气体开关，其输入端连接于第二气体源，其输出端分别可切换地连接于两个真空处理装置或者一个真空处理装置中的两个子腔室的气体入口；控制装置，其用于控制第一气体开关和第二气体开关的切换，使第一气体源与第二气体源在两个真空处理装置或者一个真空处理装置中的两个子腔室之间互补切换。本发明将反应气体在至少两个真空处理装置之间互补切换，实现完全利用反应气体，节省了成本，也提高了工作效率。

主权项

一种用于真空处理装置的气体供应装置，用于交替地向至少两个真空处理装置或者一个真空处理装置中的两个子腔室供应至少两种反应气体，其特征在于，所述气体供应装置包含：第一气体源和第二气体源，其分别提供第一气体和第二气体；第一气体开关，其输入端连接于所述第一气体源，其输出端分别可切换地连接于两个真空处理装置或者一个真空处理装置中的两个子腔室的气体入口；第二气体开关，其输入端连接于所述第二气体源，其输出端分别可切换地连接于两个真空处理装置或者一个真空处理装置中的两个子腔室的气体入口；控制装置，其用于控制所述第一气体开关和所述第二气体开关的切换，以使得当所述第一气体连接于两个真空处理装置或者一个真空处理装置中的两个子腔室的其中之一的气体入口并通过该气体入口提供第一气体时，第二气体连接于两个真空处理装置或者一个真空处理装置中的两个子腔室中另一个的气体入口并通过该气体入口提供第二气体。