[发明专利]一种监控光刻设备光路稳定性的装置有效
| 申请号： | 201210343622.5 | 申请日： | 2012-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN102866593A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 朱骏;张旭昇 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种监控光刻设备光路稳定性的装置。本发明提出一种监控光刻设备光路稳定性的装置，通过在光刻设备的照明光路装置和投影光路装置上设置水平仪，从而实现实时监测光刻设备中的光路发生偏移的偏移量，以对光刻机进行及时的调整，有效避免因光路偏移量过大造成的停机监测状况，有效的提高光路偏移量监测的效率，进而降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 监控 光刻 设备 稳定性 装置 | ||
【主权项】：
一种监控光刻设备光路稳定性的装置，包括有照明光路装置和投影光路装置的光刻设备，其特征在于，于所述照明光路装置和所述投影光路装置上设置至少一个水平仪。
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