[发明专利]晶圆缺陷扫描方法及晶圆缺陷扫描机台有效
| 申请号： | 201210342178.5 | 申请日： | 2012-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN102890089A | 公开（公告）日： | 2013-01-23 |
| 发明（设计）人： | 郭贤权;许向辉;顾珍 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种晶圆缺陷扫描方法，包括：统计得出流水线上某一站点的各个晶圆上的各个位置出现频率最高的单元像素以后赋予虚拟晶圆上的对应位置得到虚拟完美晶圆并保存所述虚拟完美晶圆；将保存的虚拟完美晶圆与所述的流水线上某一站点的晶圆做对比，检测晶圆层面的缺陷。本发明还提供一种晶圆缺陷扫描机台，包括上述的晶圆缺陷扫描方法。本发明增加虚拟完美晶圆与晶圆比较的缺陷扫描方式，加强了扫描机台捕捉缺陷能力。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 扫描 方法 机台 | ||
【主权项】：
一种晶圆缺陷扫描方法，其特征在于，包括如下步骤：统计得出流水线上一站点的各个晶圆上的各个位置出现频率最高的单元像素，将所述出现频率最高的单元像素赋予到虚拟晶圆上的对应位置，得到虚拟完美晶圆并保存所述虚拟完美晶圆；将保存的虚拟完美晶圆与所述的流水线上所述站点的晶圆做对比，检测晶圆层面的缺陷。
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