[发明专利]曝光装置

摘要

一种曝光装置，使工件在正交于工件面的方向、即Z方向移动时，修正起因于Z方向移动机构的直线度所产生的在与工件面平行的平面内的工件的移动。利用校准用显微镜来检测掩模的掩模标记像，并存储其位置。接着，将工件载置于吸附工作台，检测工件标记的位置，进行工件与掩模的对位，通过激光测长仪存储从滑块到反射镜的距离。接下来，为了进行曝光处理，通过Z方向移动机构使工件台下降工件的厚度量，并通过激光测长仪来测定从滑块到反射镜的距离。然后，根据上述距离来检测工件台的下降所引起的移动量，将工件回归到与掩模对位了的位置。在该状态下，从光射出部射出曝光光，对工件进行曝光。

主权项

一种曝光装置，其特征在于，具备：光照射部，射出曝光光；掩模台，保持形成图案的掩模；移动台，保持工件，具备射出射入测长用激光的激光测长仪；移动台XYθ方向移动机构，使上述移动台在与上述掩模的图案被曝光的上述工件面平行的平面内移动；移动台Z方向移动机构，使上述移动台与上述移动台XYθ方向移动机构一起沿与上述工件面正交的方向移动；反射镜，反射来自设置在上述移动台上的激光测长仪的激光；以及控制部，基于通过由上述反射镜反射的激光射入上述激光测长仪而测长的从上述激光测长仪到上述反射镜的距离，通过上述移动台XYθ方向移动机构使上述移动台移动；上述反射镜固定于支承上述掩模台的构造体上。