[发明专利]曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及曝光装置，更详细来说，涉及能够减小使移动台向相对于台面垂直的方向移动时所产生的、在移动台的台面上的位置偏移量的曝光装置。

背景技术

曝光装置在印制电路板或液晶面板等（以下也称为工件）的制造工序中用于配线等的图案形成。在图6中示出上述曝光装置的结构例。

图6所示的曝光装置，示出具备投影透镜、通过该投影透镜将掩模的图案投影到工件上来曝光的投影曝光装置，该图所示的装置示出如下投影曝光装置：在工件W的背面形成校准标记，将该工件背面的校准标记（以下称为工件标记WAM）与形成于掩模M的校准标记（以下称为掩模标记MAM）进行对位来进行曝光。

作为这样的曝光装置，公知有专利文献1所记载的装置。

这种曝光装置，主要具备：光照射部10；形成曝光（转印）于工件的图案的掩模M；保持该掩模的掩模台20；具备保持进行曝光处理的印制电路板或液晶面板等的工件W的吸附工作台33的工件台30；将形成于掩模M的图案投影到被保持于吸附工作台33的工件W上的投影透镜40。

另外，作为将形成于掩模M的图案投影到被保持于工件台30的工件W上的投影构件，存在不使用透镜而使用镜的装置。

光照射部10具备作为放射曝光光的光源的灯11、以及反射来自灯11的光的镜12等。

而且，工件台30由保持工件W的吸附工作台33、具备XYθ驱动部37的移动台32、以及具备Z驱动部51的移动台Z方向移动机构50构成，移动台32被载置在上述Z方向移动机构50上。而且，在移动台32上，安装有保持上述工件W的吸附工作台33。

工件台30的移动台32与吸附工作台33，通过XYθ驱动部37向XY方向（平行于工件面（曝光光所照射的面）的正交的两轴、即正交于投影透镜的光轴的两轴）、θ方向（围绕垂直于工件面的轴的旋转、即围绕平行于投影透镜40的光轴L的轴的旋转）移动，通过Z方向移动机构50的Z驱动部51向Z方向（垂直于工件面的方向、即投影透镜40的光轴L方向）移动。吸附工作台33也与移动台32一体向XYθ方向移动。

上述XYθ驱动部37的驱动装置，是例如内置有检测XYθ方向的移动量的检测构件（例如，编码器）的径向型伺服马达，在该伺服马达上经由直线导轨和滚珠丝杠等安装有上述移动台32，并可通过驱动上述伺服马达，使移动台32向XYθ方向移动。

对于上述Z方向移动机构50的Z驱动部51，同样地，也可通过内置有检测Z方向的移动量的检测构件（例如，编码器）的径向型伺服马达、直线导轨以及滚珠丝杠等构成，通过驱动该伺服马达，能够使上述移动台32向Z方向移动。

上述光照射部10、掩模台20、投影透镜40、Z方向移动机构50被支承固定于1个构造体（框架60）。即，掩模台20经由保持掩模台的框架61被上述框架60保持，投影透镜40经由固定投影透镜的框架62，被支承上述装置整体的框架60支承。

在上述中，针对使用由伺服马达等构成的躯动装置作为使工件台移动的构件的情况进行了说明，但是，作为使工件台移动的机构，例如也能够使用被称为表面马达（surface motor）台装置、微步进马达（Sawyer motor）台装置等的台装置（例如参照专利文献2等）等。

另外，在图6中，省略控制曝光装置的动作的控制部及使灯点灯的电源部等。

专利文献1：日本特许第3201233号公报

专利文献2：日本特开平2006-149051号公报

在图6所示的装置中，在工件W的背面形成有多个（在图6中为两个）工件标记WAM。

在工件台30的存在工件标记WAM的位置，形成有贯通孔33a。然后，在工件台30上，经由该贯通孔33a安装有用于检测工件标记WAM和形成于掩模M的掩模标记MAM的校准用显微镜80。

校准用显微镜80的焦点f2是为了检测工件W背面的工件标记WAM，以位于工件W的背面位置、即吸附工作台33的表面位置的方式进行设定的。

从掩模与工件的对位到曝光的顺序为如下所述。

（1）首先，进行掩模标记MAM的检测。在吸附工作台33上没有工件W的状态下，从光照射部10射出曝光光。形成于掩模M的掩模标记MAM通过投影透镜40投影，成像于相当于工件W的表面的位置。

投影透镜40的焦点位置f1（即形成于掩模的掩模标记MAM或图案成像的位置）被预先进行调整，以使其位于工件W被放置于移动台32的吸附工作台33时的工件W的表面。