[发明专利]激光热刻蚀有机光刻胶及其制备方法有效
申请号: | 201210335112.3 | 申请日: | 2012-09-11 |
公开(公告)号: | CN102880001A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 邓常猛;耿永友;吴谊群 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;C07C37/20;C07C39/17;C07C39/23 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种激光热刻蚀有机光刻胶及其制备方法,该光刻胶是由4、6、10、12、16、18、22、24、25、26、27、28-十二羟基杯[4]芳烃类衍生物构成的,其制备方法是利用间苯三酚与醛类在酸的催化下发生缩合反应生成的。本发明光刻胶可溶于有机溶剂,可用简便的旋涂方法制膜。该光刻胶膜利用激光直接加热气化直接得到光滑的凹坑型微米及纳米级图形结构,无需后续的显影工序,可进一步降低制膜成本、提高制膜效率。 | ||
搜索关键词: | 激光 刻蚀 有机 光刻 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种激光热刻蚀有机光刻胶,其特征在于是由间苯三酚与醛类在酸的催化下发生缩合反应生成的4、6、10、12、16、18、22、24、25、26、27、28-十二羟基杯[4]芳烃衍生物,其分子结构通式如下:
其中:OH和HO代表羟基,R代表是碳数目1~7的烷基、碳数目6~10的芳香基基团。
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