[发明专利]含场板结构的横向双极型晶体管在审
申请号: | 201210330957.3 | 申请日: | 2012-09-09 |
公开(公告)号: | CN103681808A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 崔京京;张作钦 | 申请(专利权)人: | 苏州英能电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/735 | 分类号: | H01L29/735;H01L29/40 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 张建纲 |
地址: | 215163 江苏省苏州市苏州高*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种含场板结构的横向双极型晶体管,自下而上包括衬底,缓冲区,集电区,基区,发射区,分别在所述集电区和所述基区的上部边界处通过离子注入的方式形成欧姆接触区,分别在所述集电区、所述基区、所述发射区通过金属淀积的方式形成金属电极,发射极位于所述发射区上,集电极位于所述集电区的欧姆接触区之上,基极位于所述基区的欧姆接触区之上,其特征在于,在所述集电区、所述基区、所述发射区外部设置有氧化层,在所述基区、所述集电区或者所述发射区中的一个或多个上设置有场板。本发明通过场板结构,增强漂移区的耗尽,来减小漂移区内的峰值电场,使得在相同的漂移区长度下可以承担更高的阻断电压,明显提高器件的阻断电压等级。 | ||
搜索关键词: | 板结 横向 双极型 晶体管 | ||
【主权项】:
一种含场板结构的横向双极型晶体管,自下而上包括衬底,缓冲区,集电区,基区,发射区,分别在所述集电区和所述基区的上部边界处通过离子注入的方式形成欧姆接触区,分别在所述集电区、所述基区、所述发射区通过金属淀积的方式形成金属电极,发射极位于所述发射区上,集电极位于所述集电区的欧姆接触区之上,基极位于所述基区的欧姆接触区之上,其特征在于:在所述集电区、所述基区、所述发射区外部设置有氧化层,在所述基区、所述集电区或者所述发射区中的一个或多个上设置有场板。
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