[发明专利]一种光电材料的制备方法无效
| 申请号： | 201210328952.7 | 申请日： | 2012-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN102851644A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 郭荔辉 | 申请（专利权）人： | 昆山铭佳利电子制品有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 刘述生 |
| 地址： | 215300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光电材料的制备方法，具体涉及光电材料领域。它的制备方法为：(1)首先将选好的衬底材料蓝宝石、石英晶体和硅片等清洗干净、烘干备用；(2)先将清洗好的衬底固定在真空室中的衬底托盘上，保持良好的面接触以便热传导均匀,然后关闭真空室,先打开电源，再打开机械泵和低真空阀门预抽真空室内气体得到底真空；(3)开始使用分子泵工作，抽吸使其可达到系统的基础真空8×104Pa；(4)使得真空室内的氧气压强达到预定的氧分压值，再引入氩气；(5)当压强达到设定值之后即可开始溅射，最后进行溅射制备薄膜。它的薄膜质量高，性能优越，能够制造出质量高的激光器。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光电 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种光电材料的制备方法，其特征在于，它的制备方法为：(1)首先将选好的衬底材料蓝宝石、石英晶体和硅片等清洗干净、烘干备用；(2)先将清洗好的衬底固定在真空室中的衬底托盘上，保持良好的面接触以便热传导均匀,然后关闭真空室,先打开电源，再打开机械泵和低真空阀门预抽真空室内气体得到底真空；(3)开始使用分子泵工作，抽吸使其可达到系统的基础真空8×104Pa；(4) 使得真空室内的氧气压强达到预定的氧分压值，再引入氩气；(5)当压强达到设定值之后即可开始溅射，最后进行溅射制备薄膜。
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