[发明专利]一种用于熔解晶体硅的坩埚及其制备方法和喷涂液有效
| 申请号： | 201210326561.1 | 申请日： | 2012-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN102797042A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 张礼强 | 申请（专利权）人： | 张礼强 |
| 主分类号： | C30B35/00 | 分类号： | C30B35/00;F27B14/10;C04B41/87 |
| 代理公司： | 台州市方圆专利事务所 33107 | 代理人： | 蔡正保;张智平 |
| 地址： | 318000 浙江省台州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于熔解晶体硅的坩埚及制备方法和喷涂液，属于坩埚技术领域。解决现有坩埚在使用过程中涂层易剥落和破损现象，不能很好的防止杂质的渗透的问题，目的在于提供一种用于熔解晶体硅的坩埚的涂层的喷涂液，该喷涂液包含氮化硅、烧结添加剂、在常温下能够与坩埚本体粘结的有机粘结剂、无机粘结剂和烧结粘结剂。还提供了一种采用该喷涂液的坩埚，该坩埚包括坩埚本体，所述的坩埚本体的内表面涂覆有涂层，所述的涂层由喷涂液喷涂而成，还提供了一种该坩埚的制备方法，通过喷涂、干燥、烧除、烧结处理后得到用于熔解晶体硅的坩埚。该坩埚能够重复使用，且涂层不易剥落和破损，能够有效了防止坩埚本体中的杂质特别是氧元素的渗透现象。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 熔解 晶体 坩埚 及其 制备 方法 喷涂 | ||
【主权项】：
一种用于熔解晶体硅的坩埚，其特征在于，包括坩埚本体（1），所述的坩埚本体（1）的内表面涂覆有涂层（2），所述的涂层（2）由喷涂液喷涂而成，所述喷涂液包含氮化硅、烧结添加剂、在常温下能够与坩埚本体（1）粘结的有机粘结剂、无机粘结剂和烧结粘结剂。
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