[发明专利]光刻设备、器件制造方法以及校准位移测量系统的方法有效
| 申请号： | 201210299623.4 | 申请日： | 2012-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN102955377A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | M·J·杰森;A·斯克鲁德尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了光刻设备、器件制造方法、以及校准位移测量系统的方法。本发明进一步公开了利用干涉测量的位移测量系统，该系统能够操作以通过使用测量辐射束和反射器测量光刻设备的可移动物体在第一方向上的位移。反射器是基本上平面的并且基本上垂直于第一方向。使用可移动物体的角位置的第一组测量值获得校准。测量束中的相位偏移被实现。获得可移动物体的角位置的第二组测量值。基于第一和第二组测量值校准利用干涉测量的位移测量系统。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 以及 校准 位移 测量 系统 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：可移动物体，所述可移动物体沿至少第一和第二方向是可移动的，所述第一和第二方向相互正交，并且所述可移动物体能够围绕垂直于第一和第二方向的轴线旋转；定位系统，能够操作以沿至少第一和第二方向移动可移动物体；利用干涉测量的位移测量系统，所述利用干涉测量的位移测量系统能够操作以通过使用测量辐射束测量可移动物体在第一方向上的位移和可移动物体围绕所述轴线的角位置，所述利用干涉测量的位移测量系统包括反射器，所述反射器是基本上平面的并且基本上垂直于第一方向；控制系统，能够操作以控制定位系统和利用干涉测量的位移测量系统，以获得可移动物体的角位置的第一组测量值、实现测量束的相位偏移以及获得可移动物体的角位置的第二组测量值；和校准系统，能够操作以基于第一和第二组测量值校准利用干涉测量的位移测量系统。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210299623.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
