[发明专利]光刻设备、器件制造方法以及校准位移测量系统的方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

可移动物体，所述可移动物体沿至少第一和第二方向是可移动的，所述第一和第二方向相互正交，并且所述可移动物体能够围绕垂直于第一和第二方向的轴线旋转；

定位系统，能够操作以沿至少第一和第二方向移动可移动物体；

利用干涉测量的位移测量系统，所述利用干涉测量的位移测量系统能够操作以通过使用测量辐射束测量可移动物体在第一方向上的位移和可移动物体围绕所述轴线的角位置，所述利用干涉测量的位移测量系统包括反射器，所述反射器是基本上平面的并且基本上垂直于第一方向；

控制系统，能够操作以控制定位系统和利用干涉测量的位移测量系统，以获得可移动物体的角位置的第一组测量值、实现测量束的相位偏移以及获得可移动物体的角位置的第二组测量值；和

校准系统，能够操作以基于第一和第二组测量值校准利用干涉测量的位移测量系统。

2.一种光刻设备，包括：

可移动物体，所述可移动物体沿至少第一和第二方向是可移动的，所述第一和第二方向相互正交；

定位系统，能够操作以沿至少第一和第二方向移动可移动物体；

利用干涉测量的位移测量系统，所述利用干涉测量的位移测量系统能够操作以超定方式测量可移动物体在第一和第二方向上的位移，所述利用干涉测量的位移测量系统包括反射器，所述反射器是基本上平面的并且基本上垂直于第一方向；

控制系统，能够操作以控制定位系统和利用干涉测量的位移测量系统，以获得可移动物体的第一组测量值、实现测量束的相位偏移以及获得可移动物体的角位置的第二组测量值；和

校准系统，能够操作以基于第一和第二组测量值校准利用干涉测量的位移测量系统；和/或监测系统，能够操作以基于第一和第二组测量值监测反射器的形状。

3.根据权利要求1或2所述的光刻设备，其中，所述控制系统布置成通过控制定位系统使可移动物体移位、使得在获得第一组测量值时可移动物体在第一方向上的位置与在获得第二组测量值时可移动物体在第一方向上的位置之间存在距离，而实现相位偏移。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中，所述距离基本上等于(a/b).(λ/c)，其中λ是测量束的波长，a、b以及c是整数。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的光刻设备，其中，所述干涉仪包括可控制的光学装置，并且所述控制系统布置成通过控制可控制的光学装置实现相位偏移。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的光刻设备，其中，所述控制系统还能够操作以控制利用干涉测量的位移测量系统，以实现第二相位效应并获得第三组测量值。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的光刻设备，其中，所述校准系统能够操作以基于由角位置的平均值重构的反射镜形状来校准利用干涉测量的位移测量系统。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的光刻设备，其中，所述校准系统能够操作以基于角位置之间的差异校准利用干涉测量的位移测量系统。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的光刻设备，其中：

利用干涉测量的位移测量系统还能够操作以通过使用第二测量辐射束测量可移动物体在第二方向上的位移，所述利用干涉测量的位移测量系统包括第二反射器，所述第二反射器是基本上平面的并且基本上垂直于第二方向；

控制系统还能够操作以通过使用第二测量束获得可移动物体的角位置的第四组测量值，实现测量束的相位偏移以及通过使用第二测量束获得可移动物体的角位置的第五组测量值；和

校准系统还能够操作以基于第四和第五组测量值校准利用干涉测量的位移测量系统。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的光刻设备，其中，所述可移动物体是配置成支撑衬底的衬底台，或配置成支撑图案形成装置的支撑构件。

11.根据权利要求1-10中任一项所述的光刻设备，其中，所述反射器固定至可移动物体。