[发明专利]光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 201210286819.X | 申请日： | 2008-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN102799077A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | S·N·L·冬德尔斯;N·顿凯特;L·H·J·斯迪文斯;R·范德汉姆;M·瑞蓬 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。具体地，本发明公开在浸没光刻设备中应用电浸湿控制浸没液体的状态。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种浸没光刻设备，包括：投影系统，构造成将图案化的辐射束投影到衬底上，所述衬底由台支撑；液体限制结构，配置成将浸没液体限制至投影系统和衬底或台的面对投影系统的表面之间的空间；至少周期地接触浸没液体的表面；和主动浸没液体控制系统，配置成控制浸没液体在所述表面上的接触角，其中所述表面是投影系统的表面或液体限制结构的上表面或液体限制结构的面对投影系统的表面。
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