[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种浸没光刻设备，包括：

投影系统，构造成将图案化的辐射束投影到衬底上，所述衬底由台支撑；

液体限制结构，配置成将浸没液体限制至投影系统和衬底或台的面对投影系统的表面之间的空间；

至少周期地接触浸没液体的表面；和

主动浸没液体控制系统，配置成控制浸没液体在所述表面上的接触角，

其中所述表面是投影系统的表面或液体限制结构的上表面或液体限制结构的面对投影系统的表面。

2.如权利要求1所述的设备，其中主动浸没液体控制系统包括第一电极和第二电极，所述第一电极设置在投影系统的表面或液体限制结构的上表面或液体限制结构的面对投影系统的表面，并且能够电连接至浸没液体。

3.如权利要求2所述的设备，其中所述第二电极设置在所述限制结构中并且与浸没液体绝缘。

4.如权利要求2所述的设备，其中所述第二电极设置在衬底台。

5.如权利要求1所述的设备，其中主动浸没液体控制系统包括：多个第一电极，布置在所述表面上使得所述表面上的浸没液体液滴能够电连接至第一电极的至少一个；和多个第二电极，布置在所述表面上使得所述表面上的浸没液体液滴与第二电极电绝缘。

6.如权利要求1所述的设备，还包括电压控制器，所述电压控制器配置成在所述第一电极和所述第二电极之间提供电压差，所述电压差导致位于所述表面上的浸没液体的液滴的电浸湿，所述液滴与至少一个所述第一电极接触使得每个液滴在所述表面上展开。

7.一种控制浸没光刻设备内表面上液体性质的方法，所述浸没光刻设备包括用于将图案化的辐射束投影到衬底上的投影系统，所述衬底通过台支撑；液体限制结构，配置成将浸没液体限制至投影系统和衬底或台的面对投影系统的表面之间的空间；和至少周期地接触浸没液体的表面；所述方法包括步骤：

控制浸没液体在所述表面上的接触角，

其中所述表面是投影系统的表面或液体限制结构的上表面或液体限制结构的面对投影系统的表面。

8.如权利要求7所述的方法，其中控制浸没液体在所述表面上的接触角的步骤包括：

在所述第一电极和所述第二电极之间提供电压差，所述电压差导致位于所述表面上的浸没液体的液滴的电浸湿，所述液滴与至少一个所述第一电极接触使得每个液滴在所述表面上展开，

其中第一电极设置在投影系统的表面或液体限制结构的上表面或液体限制结构的面对投影系统的表面，并且能够电连接至浸没液体；和，所述第二电极设置在所述限制结构中并且与浸没液体绝缘。

9.一种浸没光刻设备，包括：

投影系统，构造成将图案化的辐射束投影到衬底上，所述衬底由台支撑；

液体限制结构，配置成将浸没液体限制至投影系统和衬底或台的面对投影系统的表面之间的空间；

至少周期地接触浸没液体的表面；和

主动浸没液体控制系统，配置成控制浸没液体在所述表面上的接触角，

其中所述主动浸没液体控制系统包括第一电极和第二电极，所述第一电极设置在液体限制结构的面对衬底或台的表面，第二电极是设置在台的表面中的电极阵列。

10.如权利要求9所述的设备，其中所述表面是抽取器的多孔元件的表面。

11.如权利要求10所述的设备，其中多孔元件的至少一部分被用作主动浸没液体控制系统的第一电极。

12.如权利要求9所述的设备，其中第一电极能够电连接至浸没液体。

13.如权利要求9所述的设备，其中第二电极与浸没液体绝缘并且彼此绝缘。

14.如权利要求9所述的设备，其中第二电极被设置为第二电极的阵列，以多行和多列的形式覆盖所述台的表面。

15.如权利要求13或14所述的设备，其中第二电极通过所述台的表面上电绝缘材料层与浸没液体隔离。

16.如权利要求13或14所述的设备，其中第二电极通过在所述台的顶部放置衬底与浸没液体隔离。