[发明专利]石墨烯层的形成方法有效
| 申请号： | 201210264979.4 | 申请日： | 2012-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN103183333A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 黄昆平;张志振;谢宇泽;邱博文;亨利.迈迪纳 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供石墨烯层的形成方法，包括：将基板置入电子回旋共振装置的腔室后，将腔室抽真空；将含碳气体通入腔室中，使含碳气体的压力介于10-2torr至10-4torr之间；加热基板，使基板温度介于100℃至600℃之间；以微波辅以电子回旋共振机制激发碳氢源气体，以沉积石墨烯层于基板上。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种石墨烯层的形成方法，包括：将基板置入电子回旋共振装置的腔室后，将该腔室抽真空；将含碳气体通入该腔室中，使该含碳气体的压力介于10‑2torr至10‑4torr之间；加热该基板，使该基板温度介于100℃至600℃之间；以及以微波及辅以电子回旋共振机制激发该含碳气体，以沉积石墨烯层于该基板上。
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