[发明专利]套刻精度的检测方法有效
| 申请号： | 201210261864.X | 申请日： | 2012-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN102749815A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 李钢 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种套刻精度的检测方法，其中，包括：获取预定图案的第一基准坐标值和第二基准坐标值；分别获取预定图案所对应的实际坐标值和预定坐标值；分别计算所述实际坐标值与所述第一基准坐标值的实际差值，以及所述预定坐标值与所述第二基准坐标值之间的预定差值；将所述实际差值与预定差值进行比较，实现对套刻精度的检测。本发明通过计算预定图案的实际差值和预定差值，并将两者进行比较，以实现对套刻精度的检测，从而避免了对每一个具体的套刻标记通过显微镜进行人工查找和标注，节省了大量的人力和时间，也减少了在对套刻标记进行标注和设定的过程中所带来的误差而导致的产品良率的降低。 | ||
| 搜索关键词： | 精度 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种套刻精度的检测方法，其特征在于，包括：获取预定图案的第一基准坐标值和第二基准坐标值；分别获取预定图案所对应的实际坐标值和预定坐标值；分别计算所述实际坐标值与所述第一基准坐标值的实际差值，以及所述预定坐标值与所述第二基准坐标值之间的预定差值；将所述实际差值与预定差值进行比较，实现对套刻精度的检测。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宏力半导体制造有限公司，未经上海宏力半导体制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210261864.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
