[发明专利]一种双折射晶体位移补偿机理及光器件有效
申请号: | 201210259665.5 | 申请日: | 2012-07-26 |
公开(公告)号: | CN103576346B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 陈国强 | 申请(专利权)人: | 陈国强 |
主分类号: | G02F1/09 | 分类号: | G02F1/09 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 518000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种双折射晶体位移补偿机理及光器件,所述光学设计方法包括双折射晶体光轴和入射表面夹角的调整,通过调整此角度,可以在不改变入射角度和元件厚度的情况下,实现光学设计所需的横向走离量的目的,即降低或增大的光束横向走离量。所述隔离器包括两种设计,1)三片式低横向走离量隔离器使光线至少在一片晶体中以e光(非寻常光)模式传输,且e光经过双折射晶体后的横向走离量与经过法拉第旋光器的横向走离量方向相反,从而达到减小光路总体横向走离量的目的。2)两片式隔离器利用激光器本身偏振选择特性以及双折射晶体o光/e光相对走离特性,同样可以实现隔离目的,且此两片式设计可以进一步降低产品成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 双折射 晶体 位移 补偿 机理 器件 | ||
【主权项】:
一种使用双折射晶体位移补偿方法的两片式晶体隔离器,该方法应用双折射晶体中e光相对于o光的横向走离现象,进行偏振相关光学设计中位移补偿;该方法还包括降低光束横向走离量和增大横向走离量的应用,在不改变入射角度和元件厚度的情况下,实现改变出射光横向走离量;在光路中使用双折射晶体作为光路的横向走离元件,并使入射偏振光在双折射晶体中以e光模式传播,在不改变入射角度和元件厚度的情况下,通过在‑90°到+90°之间改变光轴和入射表面法线的夹角θ,能够增大或减小e光和o光之间的相对分开角度α,进而改变在出射端的横向走离量;该方法用于平行玻璃板结构或楔型或透镜类光学零件,以在器件内部实现不同的横向走离量;以e光模式传输的晶体处在光路中的任意位置,此晶体构成全部光路或部分光路;所述两片式晶体隔离器,包括一片双折射晶体、一片法拉第旋光器和一个激光器,所述两片式晶体隔离器是由双折射晶体和法拉第旋光器构成两片式结构,其特征在于:法拉第旋光器位于所述的双折射晶体和所述的激光器中间,当有光线在所述的双折射晶体中传输时,所述的双折射晶体的光轴和激光器输出偏振光在入射面上投影的夹角度数等于法拉第旋光器的理论旋光角度数或90°与理论旋光角度数之和,偏振方向与激光器输出偏振光偏振方向相同的反向传输光会偏离激光器波导,不能耦合进波导;偏振方向与激光器输出偏振光偏振方向垂直的反向传输光会耦合到激光器波导中,但是由于偏振方向垂直,不会影响激光器工作稳定性。
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