[发明专利]一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂有效
| 申请号： | 201210257504.2 | 申请日： | 2012-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN102746953A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 高延敏 | 申请（专利权）人： | 江苏科技大学 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 楼高潮 |
| 地址： | 212003*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂，由聚乙烯醇衍生物为20-40%，辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯为30-50%，OP为1-3%，十二烷基硫基乙酸钠为15-30%，水为2-10%组成。本发明制备工艺简单，成本低；用于单晶硅、多晶硅表面污斑的清洗，操作方便，去污快，效果好，同时还具有防止单晶硅、多晶硅表面形成污斑的功效。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 去除 硅片 表面 洗剂 | ||
【主权项】：
1.一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂，其特征是由聚乙烯醇衍生物，辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯，OP，十二烷基硫基乙酸钠和水组成，其各组分的质量百分比含量为：聚乙烯醇衍生物 20-40%，辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯 30-50%，OP 1-3%，十二烷基硫基乙酸钠 15-30%，水 2-10%，其中：所述的聚乙烯醇衍生物的分子结构为![]()
分子量为5000-40000，m1:m2=10:1，其反应产物是由聚乙烯醇与磷酸反应获得，反应具体过程为：![]()
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏科技大学，未经江苏科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210257504.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：选择性的杂环1-磷酸鞘氨醇受体调节剂
- 下一篇：座便器的清洗烘干装置
