[发明专利]使第二维度梯度适应实际第一维度条件的偏移二维分离

摘要

本发明涉及使第二维度梯度适应实际第一维度条件的偏移二维分离。提供了用于样品分离装置的控制装置，包括第一分离单元和第二分离单元，第二分离单元位于第一分离单元下游并被供应经第一分离单元处理之后的流体样品。控制装置构造成：控制第一分离单元在时间段内执行初级分离序列，以将流体样品分离成分部；并控制第二分离单元在时间段内执行次级分离序列，以将分离的分部进一步分离成子分部，其中，次级分离序列形成共用样品分离方法的一部分，共用样品分离方法由包括一组参数的、对样品分离的共用规范来限定；随着初级分离序列的进展，调节至少一个参数，多个次级分离序列中的至少一者是根据该至少一个参数来执行的。

主权项

一种样品分离装置的控制装置，所述样品分离装置用于分离流体样品，所述样品分离装置包括第一分离单元和第二分离单元，所述第一分离单元能够被供应待分离的流体样品，所述第二分离单元在所述第一分离单元的下游并且能够被供应经所述第一分离单元处理之后的流体样品，其中，所述控制装置被构造成：控制所述第一分离单元在测量时间段内执行初级分离序列，以将所述流体样品分离成多个分部；控制所述第二分离单元在所述测量时间段内执行多个次级分离序列，以将经分离的多个分部的至少一部分进一步分离成多个子分部，其中，这些次级分离序列形成共用样品分离方法的一部分，所述共用样品分离方法由包括一组参数的、对样品分离的共用规范来限定；随着所述初级分离序列的进展，调节至少一个参数，所述多个次级分离序列中的至少一者是根据所述至少一个参数来执行的，其中，所述共用样品分离方法的共用规范包括：参数化的形状关系，它是对这些次级分离序列中在先后不同时间执行的至少两个序列一致地限定的；和发展指令，其随着第一分离序列的进展而限定用于这些次级分离序列中的所述至少两个序列的形状关系的参数。