[发明专利]高分子材料修饰的量子点单模光纤放大器及其制造方法

摘要

本发明涉及一种高分子材料修饰的量子点单模光纤放大器及其制备方法，属于纳米材料相复合的光纤放大器技术领域。此单模光纤放大器，是将高分子材料修饰的半导体量子点，以溶液的形式涂覆在裸2×2熔锥光纤耦合器的熔锥区，当信号光和泵浦光同时通过锥区，通过渐逝波激发，达到信号光的放大。通过量子点制备与涂覆过程分离，使高分子修饰量子点的制备质量好、浓度高、分散性好，并从油相经相转化成了水溶性量子点涂覆液，并成膜于光纤上，成一种复合的单模光纤放大器。本发明实现了高增益、宽放大带宽、小尺寸、易于集成、制备简便、低成本的水溶性半导体量子点的单模光纤放大器，该光纤放大器在超高速、大容量的宽带接入等领域具有重要的实际意义和应用价值。

主权项

一种基于高分子材料修饰的量子点单模光纤放大器制备方法，其特征在于此量子点单模光纤放大器构成：一个1550nm信号光源1，一个980nm泵浦光源2和渐逝波放大光纤3组成；其中，在渐逝波放大光纤3中，含a）为信号光输入，b）为泵浦光输入，c）为放大后信号输出，并由2*2熔锥型单模光纤耦合器4，及基于高分子修饰的PbS量子点掺杂溶胶‑凝胶淀积薄膜5组成；2*2熔锥型单模光纤耦合器4，由信号光输入光纤6，泵浦光输入光纤7，锥区8和放大后信号输出光纤9，以及泵浦光输出光纤10组成。