[发明专利]均相阴离子交换膜及其制备方法无效
| 申请号： | 201210205651.5 | 申请日： | 2012-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN102728237A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 徐铜文;林小城 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | B01D71/06 | 分类号： | B01D71/06;B01D67/00;B01D69/10;B01J41/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王旭 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种均相阴离子交换膜及其制备方法，所述方法包括以下步骤：将卤甲基化的芳香族高聚物溶解在有机溶剂中形成待反应溶液；将所述待反应溶液和噻唑类功能小分子混合并且进行亲核取代反应，以得到带有荷正电的噻唑类功能小分子侧基的芳香族高聚物的铸膜液；和将所述铸膜液在基底上涂膜并且干燥，之后将基底移除，或者将所述铸膜液在增强织物上涂膜并且干燥，从而得到均相阴离子交换膜。 | ||
| 搜索关键词： | 均相 阴离子 交换 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种均相阴离子交换膜的制备方法，所述方法包括以下步骤：将卤甲基化的芳香族高聚物溶解在有机溶剂中形成待反应溶液；将所述待反应溶液和噻唑类功能小分子混合并且进行亲核取代反应，以得到带有荷正电的噻唑类功能小分子侧基的芳香族高聚物的铸膜液；和将所述铸膜液在基底上涂膜并且干燥，之后将基底移除，或者将所述铸膜液在增强织物上涂膜并且干燥，从而得到均相阴离子交换膜。
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