[发明专利]一种表面等离子激元波导有效
| 申请号： | 201210195451.6 | 申请日： | 2012-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN102736172A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 王健;向超;桂成程;刘勇豪 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;G02B6/10 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 曹葆青 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于波导技术，具体涉及一种表面等离子激元波导。该波导包括基底层、两个高折射率电介质层、两个低折射率电介质层以及金属层。其中在基底层上方，两个高折射率电介质层、两个低折射率电介质层以及金属层构成“高折射率电介质-低折射率电介质-金属-低折射率电介质-高折射率电介质”的叠层结构，该叠层结构水平横放或竖直叠置在基底层之上。本发明的表面等离子激元波导利用了表面等离子激元模式和传统缝波导模式的混合。在传统缝波导基础上，加入中心金属层，利用金属-电介质表面等离子激元效应，进一步增强模式局域性。另外，利用薄金属层长程表面等离子激元效应以减小金属的吸收损耗，从而得到很长的传播长度(能到达1mm以上)。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 等离子 波导 | ||
【主权项】：
一种表面等离子激元波导，其特征在于，传统缝波导的低折射率电介质缝区域变更为夹层结构，该夹层结构的两侧仍为低折射率电介质层，中心为金属材料层，使得模场能被限制在夹层中金属两侧的两个低折射率电介质层区域；所述夹层结构两侧设置有高折射率电介质层；两个高折射率电介质层、两个低折射率电介质层以及金属层构成“高折射率电介质‑低折射率电介质‑金属‑低折射率电介质‑高折射率电介质”的叠层结构，所述叠层结构水平横放或竖直叠置在基底层上。
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