[发明专利]X射线分析装置和X射线分析方法有效
| 申请号： | 201210190016.4 | 申请日： | 2012-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN102854209A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 唐·萨基特 | 申请（专利权）人： | 奥林巴斯NDT公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种XRF分析装置和X射线分析方法，包括壳体，该壳体具有要导向至试样的穿透辐射的源以及用于检测来自试样的荧光辐射的检测器。屏蔽物能够连接到壳体以保护用户免受辐射，以及安全联锁部用于检测屏蔽物是否连接到壳体。控制器对安全联锁部作出响应，用于监测辐射源在屏蔽物未连接到壳体情况下大于或等于预定功率水平的使用，以及在监测到的穿透辐射源在屏蔽物未连接到壳体的情况下的大于或等于预定功率水平的使用超过一个或多个预定阈值时提供输出信号。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 分析 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种XRF分析装置，包括：壳体，包括：要导向至试样的穿透辐射的源，以及用于检测来自所述试样的荧光辐射的检测器；屏蔽物，能够连接到所述壳体以保护用户免受辐射；安全联锁部，用于检测所述屏蔽物何时连接到所述壳体；以及控制器，对所述安全联锁部作出响应，用于：监测所述穿透辐射的源在所述屏蔽物未连接到所述壳体的情况下的大于或等于预定功率水平的使用；以及在监测到的所述穿透辐射的源在所述屏蔽物未连接到所述壳体的情况下的大于或等于所述预定功率水平的使用超过一个或多个预定阈值时，提供输出信号。
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