[发明专利]一种纳米陶瓷涂层及其制备方法有效
申请号: | 201210171490.2 | 申请日: | 2012-05-29 |
公开(公告)号: | CN102660725A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 赵宝明;张铁成;赵斌 | 申请(专利权)人: | 吉林省和旺科技开发有限公司 |
主分类号: | C23C4/10 | 分类号: | C23C4/10;C04B35/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李玉秋 |
地址: | 130000 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明提供了一种纳米陶瓷涂层及其制备方法,该纳米陶瓷涂层组成为:CeO220~30wt%,Y2O36~9wt%,余量为ZrO2。与现有技术中氧化钇稳定的氧化锆热障涂层(ZrO2-Y2O3,YSZ)相比,本发明中添加纳米CeO2制备成纳米陶瓷涂层(CSZ涂层),首先添加的纳米CeO2和ZrO2-Y2O3之间存在界面,晶粒的长大需要更多地能量,其次涂层中未熔的纳米CeO2和ZrO2-Y2O3之间存在高的局部应力,由于热膨胀失配冷却期间产生错位,对晶粒的长大有“钉扎”作用,导致CSZ涂层晶粒较小。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 陶瓷 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种纳米陶瓷涂层,其特征在于,包括以下成分:CeO2 20~30wt%;Y2O3 6~9wt%;余量为ZrO2。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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