[发明专利]显影辊、显影装置、处理盒以及成像设备有效
申请号: | 201210156869.6 | 申请日: | 2012-05-18 |
公开(公告)号: | CN102789158A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 寺坂巧;小岛敏男;肥塚恭太;神谷纪行;大泽正幸;阿部广也 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08;G03G21/18;G03G15/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开一种显影辊。该显影辊包括磁辊和其内部包括该磁辊的可旋转支撑的显影套筒,该显影套筒以圆柱形形状形成并且构造成使得该圆柱形的轴心与该显影套筒的旋转轴线不一致,该显影套筒包括具有许多在平面图中圆形或椭圆形凹陷的外表面,该凹陷以一定间隔规则地设置,并且设置在靠近旋转轴线的外表面部分中的凹陷的深度大于设置在远离该旋转轴线的外表面部分中的凹陷的深度。 | ||
搜索关键词: | 显影 装置 处理 以及 成像 设备 | ||
【主权项】:
一种显影辊,其包括:磁辊;和其内部包括所述磁辊的可旋转地支撑的显影套筒,其中所述显影套筒以圆柱形形状形成并且构造成使得所述圆柱形的轴心与所述显影套筒的旋转轴线不一致,所述显影套筒包括外表面,该外表面在平面图中具有许多圆形或椭圆形凹陷,该凹陷以一定间隔规则地设置,并且设置在所述外表面靠近所述旋转轴线的一部分中的所述凹陷的深度大于设置在所述外表面远离所述旋转轴线的一部分中的所述凹陷的深度。
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