[发明专利]金属基带的多通道连续化电解抛光装置及抛光方法有效
| 申请号： | 201210139727.9 | 申请日： | 2012-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN102851729A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 李贻杰 | 申请（专利权）人： | 上海超导科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/16 | 分类号： | C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 张妍 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种金属基带的多通道连续化电解抛光装置及抛光方法，该装置包含依次顺序设置的超声波粗洗槽、第一漂洗槽、电解抛光槽、第二漂洗槽、中和槽、第三漂洗槽、超声波精洗槽和烘干箱，超声波粗洗槽之前设置放带盘，烘干箱之后设置收带盘。使水通入超声波粗洗槽、第一漂洗槽、第二漂洗槽、中和槽、第三漂洗槽、超声波精洗槽，并使水面没过基带，使电解液循环通入电解抛光槽，并使电解抛光槽的电解液没过基带，开启步进电机，驱动基带匀速运动，进行连续电解抛光。本发明结构简单，设计合理，制造成本低，适宜于批量化的抛光生产，能够实现公里级基带的连续电解抛光，抛光后的合金基带的均方根粗糙度低于2纳米。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 基带 通道 连续 电解 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种金属基带的多通道连续化电解抛光装置，其特征在于，该装置包含依次顺序设置的超声波粗洗槽（1）、第一漂洗槽（2）、电解抛光槽（3）、第二漂洗槽（4）、中和槽（5）、第三漂洗槽（6）、超声波精洗槽（7）和烘干箱（8），超声波粗洗槽（1）之前设置放带盘（11），烘干箱（8）之后设置收带盘（20），所述的超声波粗洗槽（1）、第一漂洗槽（2）、电解抛光槽（3）、第二漂洗槽（4）、中和槽（5）、第三漂洗槽（6）、超声波精洗槽（7）和烘干箱（8）上皆设置有通孔，待处理的基带（10）从放带盘（11）中拉出，依次通过超声波粗洗槽（1）、第一漂洗槽（2）、电解抛光槽（3）、第二漂洗槽（4）、中和槽（5）、第三漂洗槽（6）、超声波精洗槽（7）和烘干箱（8）上的通孔后，缠绕进入收带盘（20）。
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