[发明专利]磁铁构件有效

专利信息
申请号: 201210082504.3 申请日: 2012-03-26
公开(公告)号: CN102709020A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 吉田健一 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: H01F7/02 分类号: H01F7/02;H01F1/053
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种兼备优良的耐蚀性和粘合性的磁铁构件。本发明所涉及的磁铁构件(30)是具备包含稀土类磁铁的磁铁素体(32)、以及包含Ni且覆盖磁铁素体(32)的镀金膜(34)的磁铁构件,在磁铁素体(32)的容易磁化方向(M)上具有其垂线的磁铁构件的面(S)中,位于面(S)的周缘部(38)的镀金膜(34)中的硫磺的含有率,比位于面(S)的中央部(36)的镀金膜(34)中的硫磺的含有率低。
搜索关键词: 磁铁 构件
【主权项】:
一种磁铁构件,其特征在于,是具备包含稀土类磁铁的磁铁素体、以及包含Ni且覆盖所述磁铁素体的镀膜的磁铁构件,所述磁铁构件的、在所述磁铁素体的容易磁化方向上具有其垂线的面中,位于所述面的周缘部的所述镀膜中的硫磺的含有率,比位于所述面的中央部的所述镀膜中的硫磺的含有率低。
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