[发明专利]磁铁构件有效
| 申请号： | 201210082504.3 | 申请日： | 2012-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN102709020A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 吉田健一 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | H01F7/02 | 分类号： | H01F7/02;H01F1/053 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁铁 构件 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁铁构件，其特征在于，
是具备包含稀土类磁铁的磁铁素体、以及包含Ni且覆盖所述磁铁素体的镀膜的磁铁构件，
所述磁铁构件的、在所述磁铁素体的容易磁化方向上具有其垂线的面中，位于所述面的周缘部的所述镀膜中的硫磺的含有率，比位于所述面的中央部的所述镀膜中的硫磺的含有率低。
2.根据权利要求1所述的磁铁构件，其特征在于，
位于所述周缘部的所述镀膜中的硫磺的含有率，是位于所述中央部的所述镀膜中的硫磺的含有率的0.80～0.95倍。
3.根据权利要求1所述的磁铁构件，其特征在于，
所述镀膜由电镀形成。
4.根据权利要求2所述的磁铁构件，其特征在于，
所述镀膜由电镀形成。
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