[发明专利]制备易脱模纳米压印印章的方法有效
| 申请号： | 201210072377.9 | 申请日： | 2012-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN102602124A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | 孙洪文;仇浩;朱玉峰;万萍;范瑞 | 申请（专利权）人： | 河海大学常州校区 |
| 主分类号： | B41C1/00 | 分类号： | B41C1/00;B41K1/02 |
| 代理公司： | 常州市科谊专利代理事务所 32225 | 代理人： | 孙彬 |
| 地址： | 213022 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备易脱模纳米压印印章的方法，该方法的工艺步骤如下：a、利用低熔点的金属加工形成原始印章；b、将原始印章隔空倒置，对原始印章凸起部分的根部、中部和顶端分别采用数量逐渐增加的加热热源进行加热，使得印章凸起部分的顶端比根部尖；c、冷却定形后，得到该纳米压印印章。本发明工艺过程比较简单方便，而且有利于纳米压印时脱模。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 脱模 纳米 压印 印章 方法 | ||
【主权项】：
一种制备易脱模纳米压印印章的方法，其特征在于该方法的工艺步骤如下：a、利用低熔点的金属加工形成原始印章；b、将原始印章隔空倒置，对原始印章凸起部分的根部、中部和顶端分别采用数量逐渐增加的加热热源进行加热，使得印章凸起部分的顶端比根部尖；c、冷却定形后，得到该纳米压印印章。
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