[发明专利]一种再生镭射电化铝薄膜无效
| 申请号： | 201210054989.5 | 申请日： | 2012-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN102582164A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 李铭果;孔祥金 | 申请（专利权）人： | 湖北联合天诚防伪技术股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B15/082 | 分类号： | B32B15/082;B32B27/18;B32B15/04;B32B38/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 430056 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种全息防伪印刷行业材料，特别涉及一种再生镭射电化铝薄膜，提供一种能够克服在制品缺陷、通过二次涂布下线半成品制成的再生镭射电化铝薄膜，包括：在作为基材层的基膜上、依次涂布离型层、成像层、镀铝层，其特征在于:在成像层和镀铝层之间设置有一层耐温区间为200-225℃的再生层，再生层涂布涂料的量控制在0.05-0.6g/m2之间，再生层厚度为0.025ｕm-0.3ｕm，再生层是含有填料纳米二氧化硅的丙烯酸树脂涂层，本发明改善在产品制备中存在的薄膜涂层耐温性差，造成模压废品率较高缺陷，不易起皮粘板，易于操作，提高电化铝制备成品率，粘版和起皮现象得到解决，模压的膜带的表面亮度较高，表观优异。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 再生 镭射 电化 薄膜 | ||
【主权项】：
一种再生镭射电化铝薄膜，包括：在作为基材层的基膜（1）上、依次涂布离型层（2）、成像层（3）、镀铝层（5），其特征在于: 在成像层3和镀铝层5之间设置有一层耐温区间为200‑225℃的再生层（4），再生层（4）涂布涂料的量控制在0.05‑0.6g/m2之间，再生层（4）厚度为0.025μm ‑0.3μm，所述再生层（4）是含有填料纳米二氧化硅的丙烯酸树脂涂层。
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