[发明专利]激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法、凸版印刷版原版、凸版印刷版的制版方法及凸版印刷版无效
| 申请号： | 201210049995.1 | 申请日： | 2012-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN102653193A | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | 菅崎敦司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B41N1/12 | 分类号： | B41N1/12;B41C1/05 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供冲洗性及彫刻感度优异的凸版印刷版原版及其制造方法。还提供溶剂墨液适性及耐刷性优异的凸版印刷版及其制版方法。本发明的激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法的特征在于包含以下工序：形成由激光雕刻用树脂组合物构成的凸版形成层的层形成工序，所述激光雕刻用树脂组合物含有(成分A)异氰酸基的平均数fn大于2的异氰酸酯化合物及(成分B)分子中具有硅氧烷键且具有2个以上活性氢的化合物；以及在热的作用下使所述凸版形成层交联、获得具有交联凸版形成层的凸版印刷版原版的交联工序。 | ||
| 搜索关键词： | 激光雕刻 凸版印刷 原版 制造 方法 制版 | ||
【主权项】：
一种激光雕刻用凸版印刷版原版的制造方法，其特征在于，包括以下工序：形成由激光雕刻用树脂组合物构成的凸版形成层的层形成工序，所述激光雕刻用树脂组合物含有(成分A)异氰酸基的平均数fn大于2的异氰酸酯化合物及(成分B)分子中具有硅氧烷键且具有2个以上活性氢的化合物；以及，在热的作用下使所述凸版形成层交联，获得具有交联凸版形成层的凸版印刷版原版的交联工序。
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