[发明专利]光刻设备、控制该设备的方法以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201210041325.5 | 申请日： | 2012-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN102650833A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | P·马尔德;J·W·克洛姆威吉克;J·M·W·范德温克尔;M·L·C·胡夫曼;F·B·J·W·M·亨德里克斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备、控制光刻设备的方法以及器件制造方法。浸没式光刻设备，包括：投影系统，配置成将图案化的辐射束引导到衬底上；和液体处理系统，配置成将浸没液体供给并限制至投影系统和衬底之间、或投影系统和衬底台之间或投影系统与衬底和衬底台之间的空间。提供控制器用以在衬底和/或衬底台相对于液体处理系统的运动期间依赖于衬底和/或衬底台相对于液体处理系统的位置和/或液体处理系统与衬底和/或衬底台之间的相对移动的方向来调节液体处理系统的下表面相对于衬底的上表面的角度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 控制 方法 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
一种浸没式光刻设备，包括：衬底台，配置成支撑衬底；投影系统，配置成将图案化的辐射束引导到衬底上；液体处理系统，配置成将浸没液体供给和限制至在投影系统和衬底之间、或投影系统和衬底台之间或投影系统与衬底和衬底台之间的空间；控制器，用以在衬底和/或衬底台相对于液体处理系统的运动期间依赖于衬底和/或衬底台相对于液体处理系统的位置和/或液体处理系统与衬底和/或衬底台之间的相对移动的方向来调节液体处理系统的下表面相对于衬底的上表面的角度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210041325.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：220kV及66kV线路防外力破坏警示仪
- 下一篇：带电感应地线操作绝缘杆
