[发明专利]光刻设备、控制该设备的方法以及器件制造方法

权利要求书

1.一种浸没式光刻设备，包括：

衬底台，配置成支撑衬底；

投影系统，配置成将图案化的辐射束引导到衬底上；

液体处理系统，配置成将浸没液体供给和限制至在投影系统和衬底之间、或投影系统和衬底台之间或投影系统与衬底和衬底台之间的空间；

控制器，用以在衬底和/或衬底台相对于液体处理系统的运动期间依赖于衬底和/或衬底台相对于液体处理系统的位置和/或液体处理系统与衬底和/或衬底台之间的相对移动的方向来调节液体处理系统的下表面相对于衬底的上表面的角度。

2.如权利要求1所述的浸没式光刻设备，其中所述角度被调节成使得液体处理系统的前边缘比液体处理系统的后边缘更远离衬底和/或衬底台的上表面。

3.如权利要求2所述的浸没式光刻设备，其中针对于衬底的边缘何时移动至液体处理系统下面或从液体处理系统下面移动离开来调节所述角度。

4.如权利要求2或3所述的浸没式光刻设备，其中所述角度被调节成使得当衬底从液体处理系统下面移动离开时液体处理系统的前边缘比液体处理系统的后边缘更远离衬底和/或衬底台的上表面。

5.如权利要求2-4中任一项所述的浸没式光刻设备，其中所述角度被调节成使得当衬底移动至液体处理系统下面时液体处理系统的前边缘比液体处理系统的后边缘更远离衬底和/或衬底台的上表面。

6.如权利要求1所述的浸没式光刻设备，其中所述角度被调节成使得当衬底的边缘移动至液体处理系统下面时，液体处理系统的前边缘比液体处理系统的后边缘更接近衬底和/或衬底台的上表面。

7.如前述权利要求中任一项所述的浸没式光刻设备，其中在液体处理系统与衬底和/或衬底台的上表面之间的最小距离在运动期间保持基本上恒定。

8.如前述权利要求中任一项所述的浸没式光刻设备，其中所述运动包括一个接一个对至少两行场进行成像。

9.如前述权利要求中任一项所述的浸没式光刻设备，其中依赖于正在被成像的场和/或哪些场正在其间被移动来调节所述角度。

10.如前述权利要求中任一项所述的浸没式光刻设备，其中根据液体处理系统和衬底台之间的相对速度来调节所述角度。

11.如前述权利要求中任一项所述的浸没式光刻设备，其中当所述位置对应于满足以下条件的场的成像时增大所述角度：在所述场的成像期间在液体处理系统和衬底之间的力的变化高于特定幅度。

12.如前述权利要求中任一项所述的浸没式光刻设备，其中基于所述位置和/或所述方向来确定旋转的一个轴线和/或多个轴线和/或旋转角度的幅度。

13.如权利要求12所述的浸没式光刻设备，其中基于衬底的边缘的一部分相对于投影系统的光轴的位置来确定旋转的一个轴线和/或多个轴线和/或旋转角度的幅度。

14.如权利要求12或13所述的浸没式光刻设备，其中基于衬底的边缘的一部分相对于投影系统的光轴的移动的相对方向来确定旋转的一个轴线和/或多个轴线和/或旋转角度的幅度。

15.一种操作光刻设备的方法，所述方法包括步骤：

相对于投影系统来移动用于支撑衬底的衬底台，所述投影系统配置成将图案化的辐射束通过由液体处理系统限定的浸没液体投影到衬底上；和

在衬底和/或衬底台相对于液体处理系统运动期间，依赖于衬底和/或衬底台相对于液体处理系统的位置和/或液体处理系统与衬底和/或衬底台之间相对移动的方向来调节液体处理系统的下表面相对于衬底的上表面的角度。