[发明专利]铝合金表面干涉膜的形成方法及其结构无效

专利信息
申请号: 201210037413.8 申请日: 2012-02-16
公开(公告)号: CN103255458A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 胡少刚;赖锋儒;陈慧珊 申请(专利权)人: 可成科技(苏州)有限公司
主分类号: C25D11/04 分类号: C25D11/04;C25D11/24;C25D11/20;C25D3/12
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 冯志云;郑特强
地址: 215122 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种铝合金表面干涉膜的形成方法及其结构,其中该形成方法包括至少下列步骤:提供一铝合金工件;前处理该铝合金工件以清洁其表面;阳极处理该铝合金工件一预定的时间,直到该表面形成一具有多个管胞状微孔的氧化膜;以酸性溶液扩孔处理该铝合金工件的该氧化膜,扩大该管胞状微孔的孔径;通电扩孔处理以扩大该管胞状微孔的底部并形成一沉积区;沉积特定金属于该管胞状微孔的该沉积区内形成干涉结构;以封孔剂封孔处理该管胞状微孔;以及除灰。本发明以上述方法形成铝合金表面干涉膜结构。
搜索关键词: 铝合金 表面 干涉 形成 方法 及其 结构
【主权项】:
一种铝合金表面干涉膜的形成方法,其特征在于,包括:提供一铝合金工件;前处理该铝合金工件以清洁其表面;阳极处理该铝合金工件一预定的时间,直到该表面形成一具有多个管胞状微孔的氧化膜;以酸性溶液扩孔处理该铝合金工件的该氧化膜,扩大该管胞状微孔的孔径;通电扩孔处理以扩大该管胞状微孔的底部并形成一沉积区;沉积特定金属于该管胞状微孔的该沉积区内形成干涉结构;以封孔剂封孔处理该管胞状微孔;以及除灰。
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