[发明专利]放射线成像中使用的栅格和栅格制备方法,以及放射线成像系统无效
| 申请号： | 201210024910.4 | 申请日： | 2012-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN102626320A | 公开（公告）日： | 2012-08-08 |
| 发明（设计）人： | 金子泰久;桥本温之 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | A61B6/06 | 分类号： | A61B6/06;G21K1/00;G21K1/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 贺卫国 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及用于在放射线成像中使用的栅格和栅格制备方法，以及使用栅格的放射线成像系统。将X射线透射基板刻蚀以形成多个槽、多个X射线透过部和多个支持部。形成在X射线透过部之间的槽在Y方向上延伸并且排列在垂直于所述Y方向的X方向上。在该槽中，支持部从X射线透过部的侧面在X方向上突出并且交替地排列在Y方向上。当通过电镀用X射线吸收材料填充槽时，支持部支持X射线透过部。支持部避免了X射线透过部由于电镀液的波动以及X射线吸收材料的不均匀生长而落下。 | ||
| 搜索关键词： | 放射线 成像 使用 栅格 制备 方法 以及 系统 | ||
【主权项】：
一种用于在放射线成像中使用的栅格，所述栅格包括：多个放射线吸收部，所述多个放射线吸收部在延伸方向上延伸；多个放射线透过部，所述放射线透过部在所述延伸方向上延伸，所述放射线吸收部和所述放射线透过部交替地排列在垂直于所述延伸方向的排列方向上；以及多个支持部，所述支持部在所述排列方向上从所述放射线透过部的至少一侧突出。
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