[发明专利]磁控溅射制备BaTiO3-Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁电铁磁复合陶瓷薄膜及制备方法有效

专利信息
申请号: 201210024838.5 申请日: 2012-02-06
公开(公告)号: CN102584217A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 杜丕一;梁腾;马宁;韩高荣;翁文剑;赵高凌;沈鸽;宋晨路;程逵;徐刚;张溪文 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C04B35/468 分类号: C04B35/468;C04B35/26;C04B35/624;C03C17/22
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 林怀禹
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种射频磁控溅射制备BaTiO3-Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁电铁磁复合陶瓷薄膜及制备方法。先制备含有Ni-Zn-Fe-Ba-Ti源的溶胶前驱体,烘干、热处理后成型并烧结成靶材;然后利用磁控溅射法在ITO/玻璃基板上沉积膜层;在空气气氛下热处理制备得到两相复合陶瓷薄膜。其薄膜既具有铁电性,又具有铁磁性。本发明结合了磁控溅射法具有制备方便,薄膜性能稳定,工艺与传统半导体工艺兼容的优点,又利用溶胶凝胶方法可以达到相当高的均匀性的特点,综合控制在一个均匀系统中原位形成两相并保持了两相各自的铁电性和铁磁性。本发明可以在磁电传感器、四态存储器及抗电磁干扰(EMI)器件等微电子器件领域得到应用。
搜索关键词: 磁控溅射 制备 batio sub ni 0.5 zn fe 铁电铁磁 复合 陶瓷 薄膜 方法
【主权项】:
一种磁控溅射制备BaTiO3‑Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁电铁磁复合陶瓷薄膜,其特征在于:其薄膜沉积于镀有ITO导电电极的玻璃基板上,获得既具有铁电性又具有铁磁性的薄膜。
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