[发明专利]遮光膜及其制造方法、固体摄像元件以及相机模块有效
申请号: | 201210021525.4 | 申请日: | 2012-01-31 |
公开(公告)号: | CN102645692A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 室祐继;村山哲;久保田诚 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G03F7/004;G03F7/027;H01L27/14;H04N5/335;H04N5/225 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 经志强 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种遮光膜及其制造方法、固体摄像元件以及相机模块。该遮光膜是固体摄像元件用遮光膜,所述固体摄像元件具有在硅基板的至少一面具备受光元件的摄像元件部,且具有形成于该硅基板的具备该摄像元件部的面上的壁,所述固体摄像元件用遮光膜是将感放射线性组成物喷雾涂布于该硅基板的具备受光元件的面、及形成于该具备受光元件的面上的壁上而形成,所述感放射线性组成物含有:(A)颜料分散物,含有包含黑色颜料的被分散体、分散剂及有机溶剂,且该被分散体的90%以上具有15nm以上30nm以下的粒径;(B)聚合性化合物;以及(C)聚合引发剂。 | ||
搜索关键词: | 遮光 及其 制造 方法 固体 摄像 元件 以及 相机 模块 | ||
【主权项】:
一种固体摄像元件用遮光膜,所述固体摄像元件具有在硅基板的至少一面具备受光元件的摄像元件部,且具有形成于该硅基板的具备该摄像元件部的面上的壁;并且所述固体摄像元件用遮光膜是将感放射线性组成物喷雾涂布于该硅基板的具备受光元件的面、及形成于该具备受光元件的面上的壁上而形成,所述感放射线性组成物含有:(A)颜料分散物,含有包含黑色颜料的被分散体、分散剂及有机溶剂,且该被分散体的90%以上具有15nm以上30nm以下的粒径;(B)聚合性化合物;以及(C)聚合引发剂。
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