[发明专利]二次电池及二次电池的制造方法有效
| 申请号： | 201210019188.5 | 申请日： | 2012-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN102623744A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 川田义高;坂井哲男;丰田夏树;冈田直忠;矢作进 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | H01M10/0525 | 分类号： | H01M10/0525;H01M10/058;H01M2/04;B23K26/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 杨谦;胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够抑制由激光焊接产生的微裂纹的缺陷的发生，实现高品质及高可靠性的二次电池及二次电池的制造方法。实施方式中的二次电池具有：容器，具有用于注入电解液的注液口，并同时收容电极体和从该注液口注入的电解液；封口盖(8)，该封口盖(8)具有：焊接痕(8e)，其以贯穿封口盖(8)及容器的盖体(3b)的深度呈环状存在；内周侧熔融痕(8f)，其以与封口盖(8)的厚度相当的深度在封口盖(8)中的焊接痕(8e)的内周侧与该焊接痕(8e)重叠地以环状存在。 | ||
| 搜索关键词： | 二次 电池 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种二次电池，其特征在于，具有：容器，具有用于注入电解液的注液口，并收容电极体和从所述注液口注入的所述电解液；以及封口盖，固定于所述容器并堵塞所述注液口，所述封口盖具有：焊接痕，以贯穿所述封口盖及所述容器的深度呈环状存在，以及内周侧熔融痕，以与所述封口盖的厚度相当的深度在所述封口盖中的所述焊接痕的内周侧与所述焊接痕重叠地呈环状存在。
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