[发明专利]一种减轻边缘效应的方法有效
| 申请号： | 201210014483.1 | 申请日： | 2012-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN103215617A | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/00 | 分类号： | C25D1/00;C25D1/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种减轻边缘效应的方法，包括如下步骤：S10：在金属掩模板原有大开口干膜图形内，曝光出一个环形区域，形成一个辅助小开口；S11：通过显影将环形区域内部的未曝光干膜洗去，暴露出芯模表面，在环形内部的芯模上也沉积上金属材料。本发明减轻边缘效应的方法减轻了大开口边缘效应，提高了板面质量，避免了印刷过程中渗锡现象以及印刷过程中锡膏厚度不均的现象。满足了产品对边缘效应的要求，并且对开口大小没有影响，大大提高了产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 减轻 边缘 效应 方法 | ||
【主权项】：
一种减轻边缘效应的方法，其特征在于，包括如下步骤：S10：在金属掩模板原有大开口干膜图形内，曝光出一个环形区域，形成一个辅助小开口；S11：通过显影将环形区域内部的未曝光干膜洗去，暴露出芯模表面，在环形内部的芯模上也沉积上金属材料。
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