[发明专利]一种减轻边缘效应的方法有效
| 申请号： | 201210014483.1 | 申请日： | 2012-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN103215617A | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/00 | 分类号： | C25D1/00;C25D1/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 减轻 边缘 效应 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种减轻边缘效应的方法，其特征在于，包括如下步骤：
S10：在金属掩模板原有大开口干膜图形内，曝光出一个环形区域，形成一个辅助小开口；
S11：通过显影将环形区域内部的未曝光干膜洗去，暴露出芯模表面，在环形内部的芯模上也沉积上金属材料。
2.如权利要求1所述的减轻边缘效应的方法，其特征在于：在步骤S10：中，所述环形区域宽度为5～10mm。
3.如权利要求2所述的减轻边缘效应的方法，其特征在于：在步骤S10中，通过辅助小开口，干膜图形边缘处的电流密度线分散到了具有辅助小开口的两条边缘线上，从而有效减轻原有大开口边缘电流线处的边缘效应。
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